如果把芯片制造比作在米粒上反复印画，光刻机就是其中最难造的“投影仪”：它把电路图形投射到晶圆的光刻胶上。如今，中国据报已开始制造国产浸没式DUV光刻机。消息尚不足以证明设备已经量产交付或能够替代ASML，却已触动资本市场最敏感的问题：中国会不会逐步减少对海外关键设备的依赖？
不是“已经追上”，而是开始制造
据 Reuters 转述 The Information，一家获得中国国有支持的企业已开始制造国产浸没式DUV设备。DUV即深紫外光刻；“浸没式”方案利用液体改善成像能力，配合多重曝光仍可制造较先进芯片，但通常比EUV需要更多步骤，成本也更高。
报道预计，初期产量很有限：2026年约5台，2027年约20台。这两个数字更像制造能力开始落地的信号，而不是成熟量产的证明。目前材料没有披露厂商名称、设备型号、制程能力，也没有说明机器是否完成客户交付和生产验证。
这里还要划清一条边界：DUV取得进展不等于掌握EUV。EUV——用波长更短的极紫外光刻画更精细图形——仍是先进制程的关键工具。ASML不仅长期主导DUV光刻设备，也独家商业化供应先进EUV系统。
ASML为什么先跌了？
据 Bloomberg，相关报道发布后，ASML股价下跌。材料没有提供跌幅和具体时点，也不能证明这则消息是股价波动的唯一原因。但市场反应仍有含义：投资者开始把国产光刻设备从远期设想，纳入对ASML长期需求的估值。
真正值得关注的不是“几台机器能否立刻改写市场”，而是国产替代是否跨过了从研发叙事到制造阶段的门槛。如果后续设备能够稳定交付并通过验证，影响才会从预期走向订单。
局限与未知
- 目前两家报道很可能追溯至同一上游消息，只能按一个独立信源看待。
- 设备性能、良率、交付和客户验证状态均未披露。
- “开始制造”不等于完成量产，更不能据此判断其性能已经接近或能够替代ASML。